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常见曝光机举例

发布时间:2011-08-19 21:37:45  作者:  浏览次数:

  MYCRO韩国制造的紫外曝光系统,适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。MDA-400M系统成功地应用于半导体制造,光电电子,平板,射频微波,衍射光学,微机电系统,凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的技术要求。

 

  MDA-400M系统组件:

 

  紫外光源构造

 

  带托盘的晶片工作台

 

  配CCD镜头的显微镜

 

  监视器

 

  掩膜夹具

 

  紫外光源透镜

 

  紫外光源镜片

 

  紫外灯电源系统

 

  操作控制器

 

  350W紫外灯

 

  MDA-400M参数:

 

  晶片台

 

  基底尺寸 标准尺寸 最大至4英寸;可选最大至6英寸;

 

  托盘 标准尺寸 最大至4英寸;可选最大至6英寸;

 

  活动范围

 

  X:10mm Y: 10mm Z : 10mm Theta: 4 degree

 

  对准精度 1um

 

  挤入补偿 Air bearing型

 

  Z轴滑动 手动

 

  真空泵 无油真空泵

 

  掩膜台

 

  掩膜夹具类型 真空吸附和机械夹取

 

  紫外光源

 

  紫外灯 350 瓦

 

  均匀光束大小 4.25“ X 4.25“

 

  曝光模式 压缩/真空/相邻

 

  曝光时间控制 可编程控制型

 

  曝光定时器 1 ~ 999.9 秒

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